Li Mingqiang, Wu Pingsong, Xu Lin, Wang Enbo (Department of Chemistry, Northeast Normal University, Changchun, 130024) Abstract A new type of organic silicon derivative consisting of tungstosilicate heteropoly anion has been first synthesized and characterized by elemental analysis, IR, UV, 1H NMR and 183W NMR measurement, suggesting that the title compound is a kind of polyoxometalate organic silicon derivative with conjugated bonds. Keywords tungstosilicate heteropoly; organic silicon; organic inorganic hybrid compound 钨硅杂多酸盐有机硅衍生物的合成及表征 李明强 巫平松 许林 王恩波(东北师范大学化学学院,长春,130024) 2001年4月26日收到;国家自然科学基金资助课题(批准号:29971006)。 摘要 首次合成了新型的钨硅杂多酸盐有机硅衍生物K4[(C6H5CONH(CH2)3Si)2O-SiW11O39]·14H2O,并通过元素分析,红外光谱,紫外光谱及183WNMR,1HNMR测试手段进行了表征, 表明标题化合物是一种具有共轭结构的多酸-有机硅衍生物。关键词 有机硅 杂多阴离子 无机-有机杂化 1 前言 多酸化合物以其具有各种确定的结构、特异的物理化学性质和广阔的应用前景,已经成为构造新型功能材料的重要无机构筑块。设计和合成基于多酸化合物的无机-有机杂化材料是近年来倍受关注的的研究热点。缺位型XM11O39n-杂多阴离子可与有机金属化合物结合形成一类有机金属衍生物,为制备这类新型的多酸型无机-有机杂化材料提供了新途径[1]。目前,有机硅和缺位钨硅杂多阴离子的衍生物的合成仅限于利用较为简单的硅烷[2]。含有共轭结构的有机硅与b-SiW11合成的有机硅多酸离子配合物还未见报道。我们用新型共轭结构的有机硅C6H5CONHCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)3和1:11钨硅杂多阴离子K8[b-SiW11O39] ·14H2O合成了一种具有共轭结构的新型多酸-有机硅衍生物,并利用元素分析,红外光谱,紫外光谱及183WNMR,1HNMR等测试手段进行了表征。 2 实验部分 2.1 主要仪器和试剂 美国ALPHACENTAURI FI/IR光谱仪。BrukerWP300,183W核磁共振仪,UV-765型紫外分光光度计。Carlo-Erba1106型元素分析仪,所用试剂均为分析纯。 2.2 配合物的合成 K8[b-SiW11O39] ·14H2O按文献[3]合成,用红外光谱鉴定。有机硅烷按文献[4]合成, 红外光谱鉴定表征。 标题化合物的合成步骤为:取5mmol有机硅溶于由20ml水和20ml乙腈组成的混合溶剂。然后在搅拌下慢慢的加入1克K8[b-SiW11O39] ·14H2O,再滴加4M HCl 2ml, 搅拌下继续反应12 h后,蒸发溶剂至10 ml,析出沉淀。经过滤,用水洗涤,用乙腈重结晶,得白色晶体。反应均在室温下进行,产率为74.1%。反应方程式为: 2C6H5CONHCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)3 + K8[b-SiW11O39] ·14H2O +4 H++ H2O → K4[(C6H5CONHCH2CH2CH2Si)2O-SiW11O39]·14H2O + 6 HOCH2CH3 + 4K+ 3 结果与讨论 图1 标题化合物的红外光谱 3.2 红外光谱 表1 产物和K8[b-SiW11O39] ·14H2O的IR数据(cm-1)
* 引自文献[5]。3.3 UV光谱 标题化合物的UV光谱在260nm, 325nm处出现两个吸收峰,与未取代的杂多阴离子K8[b-SiW11O39]的UV光谱相似(见图2),属于Od→W , Ob,c→W的荷移跃迁谱带。但生成标题化合物以后,谱带红移,是因为硅原子的加入降低了氧的 pp电子到钨的dp轨道的跃迁能量。UV光谱的测定结果表明,杂多阴离子的Keggin结构骨架仍然被保持在标题化合物的结构中。
图3是标题化合物的1H NMR谱。在δ=7.81处的单峰是苯环H的特征峰, δ=3.2处的多重峰归属为与胺基相连的CH2CH2上的H,δ=1.3处的三重峰为与硅相连的CH2上的H的特征峰,δ=1.9处为DMSO的溶剂峰,δ=2.7处的峰反映了NH上的H。这些结果指示出产物中含有氨基硅烷的分子结构。与有机硅配体的1HNMR比较,标题配合物的1H的化学位移向低场偏移,表明多酸阴离子和有机硅键合对1H的化学位移的影响。 3.5 183W NMR 从标题化合物的183W NMR谱中可看到(图4), 在DMF 溶剂中,标题化合物的183W NMR分别在δ=-103.08,δ=-103.9 和δ=-120.15 ppm处出现三个峰。与K8[b-SiW11O39]·14H2O的183W NMR的9个核磁共振峰比较 [7],由于两个硅的加入使钨的化学环境发生变化,多酸阴离子的对称性提高[8],导致核磁共振峰的数目减少。这反映了硅和杂多阴离子中的氧原子是以共价键相结合[9]。
根据对以上测定结果的分析,得到产物的分子式为:K4[(C6H5CONH(CH2)3Si)2O-SiW11O39]·14H2O,可推测分子的多面体结构如图5所示。研究结果表明,借助于缺位型杂多阴离子的反应活性和适当选择有机金属化合物,可能构造出各种多酸型无机-有机杂化材料,为进一步开发它们的材料性能打下了基础。 REFERENCES |
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